BHQ-2酰胺用于荧光探针的5'标记或在内部放置淬灭剂。该亚酰胺含有DMT保护基，该保护基在传统条件下被除去。BHQ-2淬灭剂被设计为在560至670 nm范围内具有最大吸收，这提供了在此范围内发射的荧光团的出色淬灭。

合成条件：稀释之前，请确保所有产品均在小瓶底部。稀释至建议的浓度，并在密封的小瓶中充分混合，以确保所有固体均已溶解。

稀 释 度：100 µmol / mL

脱保护条件取决于用于合成寡聚物的亚酰胺的类型。如果使用标准亚酰胺，则在60°C的浓NH4OH中脱保护5小时。如果使用快速脱保护剂，则在60°C的浓NH4OH中脱保护剂1小时。如果您使用的是碱性敏感的荧光团（例如TAMRA或若丹明基染料），我们建议在60°C下在叔丁胺/ H2O（1:3）中将染料标记的寡核苷酸脱保护12-13小时。

如果在合成过程中未使用所有溶液，则可将其保存在氩气中，并且其功能最多可维持48小时。如果将BHQ-2酰胺放在露天或未干燥的地方，则易于氧化。